全(quán)自動(dòng)遊(yóu)離(lí)二氧(yǎng)化(huà)矽前(qián)處(chǔ)理(lǐ)儀(yí)  型號(hào)：HAD-N880

空氣中的二氧化(huà)矽(guī)通(tōng)常(cháng)以兩(liǎng)種形態存在:

粉塵態(tài):

自然(rán)環境(jìng)中(zhōng),岩石(shí)風化(huà)，土壤(rǎng)揚塵等過程會使二氧化(huà)矽以微小的粉(fěn)塵(chén)顆粒(lì)形(xíng)式進入空氣(qì)。在(zài)工(gōng)業活動中,如(rú)采礦，采石(shí)，建築(zhù)施工，玻(bō)璃製(zhì)造，陶(táo)瓷(cí)生(shēng)產等(děng)過程中,也(yě)會(huì)產生大(dà)量含有二氧化矽的(dí)粉塵。這些(xiē)粉(fěn)塵粒(lì)徑(jìng)大小(xiǎo)不一,可(kě)分為(wéi)可吸入顆(kē)粒物(粒(lì)徑小於 10 微米)和(hé)呼(hū)吸(xī)性粉塵(粒徑(jìng)小(xiǎo)於 5 微(wēi)米),能(néng)夠(gòu)長時間懸(xuán)浮(fú)在空氣中。

氣(qì)態:

在高溫，高(gāo)能(néng)量的(dí)特(tè)定(dìng)條(tiáo)件下(xià),如(rú)火山(shān)噴發(fā)時(shí),部分二(èr)氧化矽可能會以氣(qì)態(tài)形式存在於空(kōng)氣(qì)中,但(dàn)這(zhè)種情況相對較少見(jiàn)。氣態(tài)二氧化矽極(jí)不穩(wěn)定(dìng),一旦環(huán)境條件(jiàn)改(gǎi)變(biàn),會(huì)迅速凝結成固態(tài)顆(kē)粒。

    空(kōng)氣中的二(èr)氧化(huà)矽形(xíng)態(tài)會(huì)受(shòu)到多種因素的(dí)影響,如(rú)地理(lǐ)位置，氣象(xiàng)條件(jiàn)，人類活(huó)動等。在(zài)一些(xiē)特定的工作場(cháng)所(suǒ)或(huò)環(huán)境中(zhōng),空氣中二(èr)氧(yǎng)化矽(guī)的含量(liáng)可(kě)能(néng)會(huì)較(jiào)高(gāo),長期暴露在這樣的(dí)環境中(zhōng),可能(néng)會對(duì)人體健康造(zào)成危(wēi)害,如引發矽肺等(děng)疾(jí)病

全自(zì)動遊離(lí)二(èr)氧(yǎng)化(huà)矽前處(chǔ)理儀產品(pǐn)簡(jiǎn)介(jiè)：

 按照(zhào)中(zhōng)華(huá)人民共和國(guó)職業衛生(shēng)標準《GBZ/T 192.4-2007工作(zuò)場所(suǒ)空氣中(zhōng)粉(fěn)塵(chén)測定(dìng) 第4部(bù)分：遊離二(èr)氧化矽含(hán)量(liáng)》焦磷(lín)酸法研製(zhì)。

 儀(yí)器高度(dù)自動(dòng)化(huà)，自(zì)動控(kòng)溫(wēn)消解，清(qīng)洗，過(guò)濾(lǜ)分離等，有(yǒu)效(xiào)降(jiàng)低實驗(yàn)過(guò)程中(zhōng)各個(gè)環節(jié)的誤差，保(bǎo)證(zhèng)實(shí)驗(yàn)結果的(dí)可靠性(xìng)。儀器人(rén)性化設計(jì)，操(cāo)作簡(jiǎn)便，降(jiàng)低了實驗工作(zuò)量提高工作效率，結(jié)果準(zhǔn)確，內置廢(fèi)氣排風裝(zhuāng)置，保護了實驗人員身體健康

儀器應(yīng)在環境(jìng)溫度和(hé)相對濕度分(fēn)別(bié)為(wéi)5～35℃和0～85%的(dí)範(fàn)圍內使用。

  接(jiē)入(rù)電源為220V±10%（50Hz±0.5 Hz），能(néng)提(tí)供的(dí)功(gōng)率(shuài)不(bù)小(xiǎo)於(yú)2200W。

  首先連接各(gè)管路進水(shuǐ)管，排水(shuǐ)管(guǎn)，防(fáng)溢管(guǎn)，排(pái)風管(guǎn)

作(zuò)業(yè)場所空氣(qì)中(zhōng)粉(fěn)塵(chén)濃(nóng)度(dù)與粉(fěn)塵(chén)中(zhōng)遊離(lí)二(èr)氧(yǎng)化矽的含量(liáng)有(yǒu)關。

當粉塵中(zhōng)遊(yóu)離二氧化矽含(hán)量＜10% 時，總粉(fěn)塵最(zuì)高允(yǔn)許(xǔ)濃度為 10mg/m³，呼吸性粉塵最高(gāo)允(yǔn)許濃度(dù)為 3.5mg/m³。

當(dāng)粉塵中遊(yóu)離二(èr)氧化(huà)矽含量(liáng)在(zài) 10% 至＜50% 時，總(zǒng)粉塵(chén)最高允許(xǔ)濃度(dù)為(wéi) 2mg/m³，呼(hū)吸(xī)性粉塵(chén)最(zuì)高(gāo)允許濃度為 1mg/m³。

當粉塵(chén)中(zhōng)遊離二氧化矽含量(liáng)在(zài) 50% 至＜80% 時(shí)，總粉(fěn)塵(chén)最高允許(xǔ)濃(nóng)度(dù)為 2mg/m³，呼(hū)吸(xī)性粉塵(chén)最高允許濃度(dù)為 0.5mg/m³。

當粉塵中遊離二(èr)氧化矽含量(liáng)≥80% 時，總(zǒng)粉塵最高允(yǔn)許(xǔ)濃度為 2mg/m³，呼(hū)吸性粉(fěn)塵最(zuì)高(gāo)允(yǔn)許濃度為 0.3mg/m³。

車間4：《車間(jiān)空(kōng)氣中含(hán) 50%-80% 遊離二(èr)氧化(huà)矽粉塵(chén)衛(wèi)生標準(zhǔn)》規定(dìng)，車間(jiān)空氣中含(hán) 50%-80% 遊離二氧(yǎng)化(huà)矽粉(fěn)塵(chén)最(zuì)高容許濃度為 1.5mg/m³。而(ér)車(chē)間空氣(qì)中含 80% 以(yǐ)上遊離二(èr)氧化(huà)矽(guī)粉(fěn)塵衛(wèi)生標準規定(dìng)，其最高容許濃度(dù)為(wéi) 1mg/m³。

技術(shù)參數

1.高(gāo)清(qīng)觸控(kòng)電腦，內置方法(fǎ)選(xuǎn)擇(zé)

2.自動(dòng)製(zhì)備(bèi)焦磷酸，自動(dòng)添加(jiā)鹽(yán)酸衝洗(xǐ)

3.自動(dòng)完(wán)成(chéng)消解(jiě)，稀(xī)釋，酸洗，水(shuǐ)洗(xǐ)，過(guò)濾等步驟，全(quán)程(chéng)自動(dòng)化(huà)，無需人工幹預(yù)

4.內(nèi)置樣品消解(jiě)位8個，樣品過(guò)濾(lǜ)位8個

5.內(nèi)置蒸(zhēng)餾水(shuǐ)水箱(xiāng)，自動(dòng)加(jiā)水(shuǐ)，補水，排水(shuǐ)，防溢。

6.過(guò)濾(lǜ)全程(chéng)保溫(wēn)，溫(wēn)度(dù)可任意設置

7.采用(yòng)360°旋轉清(qīng)洗，多路平行清(qīng)洗(xǐ)，可編程(chéng)清洗(xǐ)次(cì)數

8.智能轉移，過(guò)濾時(shí)液(yè)位檢(jiǎn)測(cè)，防止(zhǐ)樣品溢出

9.儀(yí)器(qì)自帶(dài)排(pái)風(fēng)係統(tǒng)，.管(guǎn)道(dào)可隨意伸(shēn)縮，彎曲，使用(yòng)靈活，方便

10.準確(què)度：符(fú)合樣(yàng)品(pǐn)要求(qiú)範圍(wéi)重(zhòng)復性±5%，按標準(zhǔn)灰(huī)化幹(gān)燥(zào)後，至少(shǎo)高(gāo)，中，低三(sān)個濃度(dù)質(zhì)控數據(jù)在(zài)不(bù)確定度範(fàn)圍內。

11.精(jīng)密度：按(àn)標(biāo)準(zhǔn)灰化幹燥後(hòu)，高，中，低濃(nóng)度(dù)質控數據(jù)的(dí)相對(duì)標準偏(piān)差(chà)RSD≤5%