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描述:JDC-4靜電(diàn)場(cháng)描(miáo)繪實(shí)驗儀(yí) 1,導電層均匀(yún)性(xìng)相對誤差<3%。 2,電(diàn)與鍍(dù)膜層接觸電(diàn)阻<0.1Ω。 3,鍍(dù)層與電的阻值(zhí)比>104. 4,測量(liáng)點與(yǔ)描繪(huì)點(diǎn)之間(jiān)誤差<1mm. 5,實驗(yàn)值與理(lǐ)論(lùn)值(zhí)的相對(duì)誤(wù)差<5%。 6,鍍(dù)層的(dí)強(qiáng)度,經(jīng)smc-1型(xíng)強度(dù)試(shì)驗(yàn)儀(yí),經(jīng)過(guò)次磨(mó)擦試驗,鍍(dù)膜好無損。 7,電源輸出(chū)2v—10v連(lián)續(xù)可調。 8,電源的內阻<0.1Ω。 9,電(diàn)源(yuán)調(tiáo)整率(shuài)優於(yú)0.5%。
廠商性質
生(shēng)產廠家(jiā)更新時間
2026-07-29訪問(wèn)量
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詳細(xì)介紹
| 品牌(pái) | 其(qí)他品牌(pái) | 產(chǎn)地類別(bié) | 國產 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用(yòng)領域(yù) | 環(huán)保,化(huà)工(gōng),生物(wù)產業 |
描述(shù)
JDC-4靜(jìng)電場描(miáo)繪實驗儀
1,導電層均匀(yún)性相(xiāng)對誤差(chà)<3%。
2,電(diàn)與鍍(dù)膜(mó)層接(jiē)觸電阻(zǔ)<0.1Ω。
3,鍍(dù)層與電(diàn)的阻(zǔ)值比>104.
4,測量點與描(miáo)繪(huì)點(diǎn)之(zhī)間誤差(chà)<1mm.
5,實(shí)驗值與理論值的(dí)相(xiāng)對誤差<5%。
6,鍍層(céng)的強度,經smc-1型強(qiáng)度(dù)試(shì)驗(yàn)儀(yí),經(jīng)過次(cì)磨(mó)擦試驗(yàn),鍍(dù)膜好無損。
7,電(diàn)源(yuán)輸(shū)出(chū)2v—10v連(lián)續可調(tiáo)。
8,電源的內(nèi)阻<0.1Ω。
9,電(diàn)源調(tiáo)整率(shuài)優於0.5%。
10,三位(wèi)半(bàn)液(yè)晶(jīng)顯示。
描(miáo)述(shù)
JDC-4靜電場描(miáo)繪實(shí)驗儀(yí)
1,導(dǎo)電層均(jūn)匀性(xìng)相(xiāng)對誤(wù)差<3%。
2,電(diàn)與鍍膜層接(jiē)觸(chù)電(diàn)阻<0.1Ω。
3,鍍層(céng)與(yǔ)電(diàn)的阻(zǔ)值(zhí)比(bǐ)>104.
4,測(cè)量點與描繪點(diǎn)之間誤差(chà)<1mm.
5,實驗(yàn)值(zhí)與理(lǐ)論值的(dí)相(xiāng)對誤差(chà)<5%。
6,鍍(dù)層(céng)的強度,經smc-1型強度試驗(yàn)儀,經過(guò)次磨(mó)擦(cā)試(shì)驗,鍍(dù)膜好無損(sǔn)。
7,電(diàn)源輸(shū)出(chū)2v—10v連(lián)續可調。
8,電(diàn)源的內(nèi)阻(zǔ)<0.1Ω。
9,電源(yuán)調整(zhěng)率優(yōu)於0.5%。
10,三(sān)位(wèi)半(bàn)液晶(jīng)顯(xiǎn)示(shì)。
描(miáo)述(shù)
JDC-4
1,導電(diàn)層均匀性相(xiāng)對誤差<3%。
2,電與(yǔ)鍍膜(mó)層接(jiē)觸電阻<0.1Ω。
3,鍍(dù)層與(yǔ)電(diàn)的阻(zǔ)值(zhí)比(bǐ)>104.
4,測量點(diǎn)與描(miáo)繪(huì)點(diǎn)之(zhī)間誤差<1mm.
5,實(shí)驗(yàn)值與理(lǐ)論值的相(xiāng)對誤(wù)差<5%。
6,鍍(dù)層的強(qiáng)度(dù),經(jīng)smc-1型強度(dù)試驗儀,經(jīng)過(guò)次磨擦試(shì)驗(yàn),鍍膜好無(wú)損(sǔn)。
7,電源(yuán)輸(shū)出2v—10v連(lián)續可調(tiáo)。
8,電(diàn)源(yuán)的內阻(zǔ)<0.1Ω。
9,電源調整(zhěng)率優(yōu)於(yú)0.5%。
10,三(sān)位(wèi)半(bàn)液(yè)晶顯(xiǎn)示。
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