射頻磁控濺(jiàn)射(shè)鍍膜裝(zhuāng)置/磁控濺射鍍膜裝(zhuāng)置 型(xíng)號
；ZH21-HRM-1

可(kě)開設的實驗(yàn)

1，掌握射頻磁(cí)控濺射法製膜的基(jī)本原(yuán)理
；

2，了解磁控(kòng)濺(jiàn)射(shè)鍍(dù)膜儀(yí)的操作過程(chéng)及使用(yòng)範圍
；

3，磁(cí)控濺(jiàn)射法(fǎ)製備(bèi)金屬(shǔ)膜(mó)，半(bàn)導體(tǐ)膜，化合(hé)物膜，介質膜等(děng)薄(báo)膜。

主要參數(shù)

    1，濺射(shè)鍍膜室(shì)
：由不鏽鋼底(dǐ)與玻(bō)璃(lí)鐘罩(zhào)組成(chéng)
；有效(xiào)尺寸
：Φ220×H230mm³
；

    2，濺射(shè)鍍膜(mó)室本(běn)底真(zhēn)空(kōng)
：≤1Pa
；濺射(shè)腔限真空
：6×10^-1Pa
；

    3，濺射(shè)靶(bǎ)
：Φ50mm，濺射(shè)靶(bǎ)台和濺(jiàn)射靶可(kě)調(tiáo)距(jù)離(lí)
：20～60mm
；

    4，基(jī)片加熱(rè)溫(wēn)度可控範(fàn)圍
：室溫～300℃
；

5，射頻源率
：500W，13.56MHz
；

6，氣路係統(tǒng)
：由兩路轉子量計控製（可選配質量(liáng)量計）
；

    7，真(zhēn)空係(xì)統
：2XZ-4型(xíng)旋(xuán)片(piàn)真(zhēn)空(kōng)泵，抽氣速(sù)率
：4L/S，單(dān)相220V交電(diàn)源(yuán)供電
；

    8，對過過(guò)壓(yā)，斷路等異常情(qíng)況(kuàng)行報警，並執(zhí)行相應(yīng)保護措施
；

    9，供電電(diàn)源(yuán)
：AC220V，50Hz，整機率(shuài)2KW。

：

北京恒(héng)奧德(dé)儀(yí)器儀表(biǎo)有限公(gōng)司

：鵬

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地(dì)址
：北京(jīng)市(shì)海澱區阜(fù)成路(lù)42號院6號(hào)C-211