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當(dāng)前(qián)位(wèi)置(zhì):首(shǒu)頁(yè) > 技(jì)術(shù)文(wén)章 > 表麵磁(cí)光克爾(ěr)效(xiào)應(yīng)實驗係統(tǒng)介紹
表(biǎo)麵(miàn)磁(cí)光(guāng)克爾(ěr)效(xiào)應(yīng)實(shí)驗(yàn)係(xì)統 型號;HAD-FD-SMOKE-B
FD-SMOKE-B型表麵(miàn)磁(cí)光克爾效(xiào)應(yīng)實(shí)驗(yàn)係統(tǒng)是在A型SMOKE實(shí)驗係統的(dí)基礎(chǔ)上改提(tí)而成(chéng),儀器(qì)的(dí)整體(tǐ)性能和(hé)實(shí)驗穩定(dìng)度(dù)均得到了明(míng)顯(xiǎn)的改(gǎi)善。
,實(shí)驗(yàn)平(píng)台(tái)改掉(diào)了光學鐵板的形式,采(cǎi)用硬鋁(lǚ)黑色陽(yáng)氧化(huà)的(dí)方(fāng)式(shì),這樣大(dà)大提了光學平台(tái)的可(kě)移(yí)動性和光學(xué)性能(néng),台(tái)麵采用 M6固定螺(luó)孔的方(fāng)式來連(lián)接各個(gè)光(guāng)學(xué)元件,這(zhè)樣(yàng)整個(gè)光(guāng)學調節成後可以減(jiǎn)少不(bù)的移動(dòng)和(hé)改變,對後麵(miàn)實驗操作(zuò)帶(dài)來了方(fāng)便。
其(qí)次,儀器測(cè)試(shì)靈敏(mǐn)度(dù)提了倍(bèi),這(zhè)樣zui終的(dí)測試信(xìn)號(hào)整體穩定(dìng)性(xìng)得到了(liǎo)大大改善(shàn),這樣可(kě)以(yǐ)步(bù)研究(jiū)單原子(zǐ)層厚度(dù)的磁性(xìng)薄(báo)膜的性質(zhì),在磁(cí)性薄膜的磁有序(xù),磁(cí)各(gè)向異性,層間耦合(hé)和(hé)磁(cí)性薄膜(mó)的相(xiāng)變行為(wéi)等(děng)方麵(miàn)的(dí)研(yán)究中(zhōng)發(fā)揮更重要(yào)的作用。
再有,環(huán)形電磁鐵(tiě)步改(gǎi),在不(bù)改變(biàn)中(zhōng)心(xīn)zui大(dà)磁感應強度的情(qíng)況下(xià),縮(suō)小(xiǎo)磁鐵結(jié)構,這樣更加有利於與真空係統(tǒng)連(lián)接,對磁性薄(báo)膜和(hé)薄(báo)膜(mó)行原位(wèi)測量(liáng)。
儀器主要(yào)參數(shù):
1.實(shí)驗平(píng)台 光(guāng)學(xué)減振組合式(shì)實驗(yàn)台,台(tái)麵尺寸 1200×900mm,M6螺(luó)孔,孔(kǒng)距25×25mm,
2.穩定(dìng)度半導體激光(guāng)器(qì),波長(cháng) 650nm,輸(shū)出(chū)率 2mW左右(yòu),zui小光斑直(zhí)徑(jìng)1mm。
3.偏(piān)振(zhèn)棱(léng)鏡(jìng) 通光(guāng)孔徑 8mm,消光(guāng)比 10 -5 ,主透比90%。
4.環(huán)形(xíng)電磁鐵 中心(xīn)zui大(dà)磁(cí)感(gǎn)應強度(dù)約(yuē) 2800Gs,磁(cí)間隙(xì)30mm
5.恒(héng)電源 zui大電壓38V,zui大輸(shū)出電 10A。